上海艾司科已被确定为中国首台国产浸没式DUV光刻机扫描仪的制造商。这一发展意义重大,它标志着在先进芯片制造工具的国内生产方面迈出了重要一步,尽管中国供应商目前在ArF浸没式光刻胶等关键部件方面所占份额非常小。该公司资本雄厚,预计将为主要中国芯片制造商(如中芯国际、华虹半导体和长鑫存储)提供服务,这些制造商由于缺乏EUV技术而依赖DUV技术。 AI
影响 光刻机工具的这项进展对于中国生产先进芯片的能力至关重要,而先进芯片是AI开发和部署的基础。
排序理由 一个主要地缘政治参与者在本土半导体制造能力方面取得重大进展。
- ASML
- Beijing RSLaser
- Carl Zeiss SMT
- CXMT
- Coherent
- Cymer
- Fujifilm
- Gigaphoton
- Hua Hong Semiconductor
- Nata Opto-electronic
- Shanghai Aishengna Electronic Technology Group
- Shanghai Micro Electronics Equipment
- Shanghai Yuliangsheng Technology
- SMIC
- Tokyo Electron
- Tokyo Ohka Kogyo
- Xuzhou B&C
- 7 nm lithography process
- China
- Shanghai Aishengna
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