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English(EN) Chinese chipmaking tool roadmaps examined — Beijing's nascent lithography tools target DUV production at five machines a year, and an EUV prototype with no chips

中国推进国内DUV光刻工具生产，面临零部件进口挑战

作者 PulseAugur 编辑部 · [2 个来源] ·

据报道，中国在开发自己的光刻机方面取得了进展，计划今年生产约五台浸没式DUV（深紫外）系统，到2027年达到20台。这些由上海艾司科（Aishengna）电子科技有限公司开发的机器，旨在用于生产线验证而非大规模生产，并且还无法与ASML的先进型号相媲美。虽然中国的国内工具制造商在蚀刻和沉积方面取得了进展，但光刻仍然是一个重大挑战，关键部件仍需进口，光刻工具的整体国产化率仅为18%。 AI

影响 中国国内光刻工具生产的发展可能会影响全球先进半导体供应链，从而影响AI硬件的开发和部署。

排序理由 关于中国在开发关键半导体制造设备（光刻工具）方面取得进展以及面临的挑战的报道，表明全球半导体供应链格局发生了重大转变。

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中国推进国内DUV光刻工具生产，面临零部件进口挑战

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报道来源 [2]

  1. Tom's Hardware TIER_1 English(EN) · Luke James ·

    中国芯片制造工具路线图受审视——北京 nascent 光刻工具目标是每年生产五台DUV设备，以及一个没有芯片的EUV原型机

    Ultimately, three markers will indicate whether China’s domestic DUV program is a legitimate rival or yet more state-sanctioned hot air.

  2. Mastodon — mastodon.social TIER_1 English(EN) · [email protected] ·

    中国芯片制造工具路线图受审视——北京 nascent 光刻工具瞄准年产五台DUV设备，以及一台无芯片的EUV原型机

    Chinese chipmaking tool roadmaps examined — Beijing's nascent lithography tools target DUV production at five machines a year, and an EUV prototype with no chips Ultimately, three markers will indicate whether China’s domestic DUV program is a legitimate rival or yet more state-s…

    链接 tomshardware.com/…/chinese-chipmaking-too… tomshardware.com/tech-industry

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