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Yuliangsheng
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中国EUV技术落后于ASML 2004年水平，分析师声称 · 追踪到2个来源
瑞银的一位分析师表示，中国先进的光刻技术目前相当于ASML在2004年的能力。尽管中国公司正在开发自己的半导体制造工具，包括沉积和蚀刻设备，但它们尚未生产出用于现代芯片生产的具有竞争力的光刻机。专家认为，即使未来在浸没式DUV光刻系统方面取得进展，中国的半导体产业仍可能继续落后于西方竞争对手。
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中国推进国内DUV光刻工具生产，面临零部件进口挑战
据报道，中国在开发自己的光刻机方面取得了进展，计划今年生产约五台浸没式DUV（深紫外）系统，到2027年达到20台。这些由上海艾司科（Aishengna）电子科技有限公司开发的机器，旨在用于生产线验证而非大规模生产，并且还无法与ASML的先进型号相媲美。虽然中国的国内工具制造商在蚀刻和沉积方面取得了进展，但光刻仍然是一个重大挑战，关键部件仍需进口，光刻工具的整体国产化率仅为18%。