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中国推进国内DUV光刻工具生产，面临零部件进口挑战
据报道，中国在开发自己的光刻机方面取得了进展，计划今年生产约五台浸没式DUV（深紫外）系统，到2027年达到20台。这些由上海艾司科（Aishengna）电子科技有限公司开发的机器，旨在用于生产线验证而非大规模生产，并且还无法与ASML的先进型号相媲美。虽然中国的国内工具制造商在蚀刻和沉积方面取得了进展，但光刻仍然是一个重大挑战，关键部件仍需进口，光刻工具的整体国产化率仅为18%。
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报告称，中国的 CXMT 有望在 2026 年与美光的 DRAM 容量相匹敌
Citrini Research 的一份研究报告预测，中国的长鑫存储科技（CXMT）到 2026 年的 DRAM 生产能力将接近美光。这一发展可能使中国成为世界第二大动态随机存取存储器生产国，仅次于韩国。报告预计到 2030 年中国整体 DRAM 容量将大幅增长，但这取决于先进光刻设备的可获得性以及潜在的出口限制等因素。