Intel已达成一项重要里程碑，成为首家利用ASML的High-NA EUV光刻技术生产和出货大批量逻辑芯片的公司。这项应用于其基于Intel 18A工艺节点的Panther Lake处理器选定层级的技术，标志着High-NA EUV从研发阶段转向商业部署。该技术有望实现更小、更密集的电路图案，这对于未来AI和其他高要求技术的进步至关重要。 AI
影响 实现更小、更密集的芯片图案，对推进AI硬件能力至关重要。
排序理由 首家出货使用全新、先进光刻技术的大批量逻辑芯片的公司。
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Intel is using ASML’s High-NA EUV tools to pattern select Panther Lake layers, marking the technology’s first use in high-volume logic production
Intel becomes the first company to ship high-volume logic chips made with ASML's High NA EUV — select Panther Lake layers on 18A are now dual-qualified for 0.55 NA scanners Intel is using ASML’s High-NA EUV tools to pattern select Panther Lake layers, marking the technology’s fir…