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English(EN) Chinese startup claims photonic chip production without DUV lithography, says nanoimprint process cuts costs by 90% — 8-inch wafers produced without conventional optical lithography

中国初创公司Prinano声称通过纳米压印将光子芯片生产成本降低90%

作者 PulseAugur 编辑部 · [1 个来源] ·

中国初创公司Prinano宣布在光子芯片生产方面取得突破，采用了一种新颖的纳米压印光刻（NIL）工艺。该方法绕过了昂贵的深紫外（DUV）光刻设备的需求，可能将制造成本降低高达90%。该公司已成功生产出8英寸光子芯片晶圆，这是一个重大进展，可能有助于中国规避美国对先进半导体技术的出口限制。 AI

影响 光子芯片制造的这项进步可能使AI硬件的组件更具成本效益和可及性，并可能绕过当前的地缘政治供应链限制。

排序理由 一家公司宣布了一种关键半导体类型的新制造工艺，该工艺显著降低了成本并可能规避出口限制。[lever_c_demoted from significant: ic=1 ai=0.7]

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中国初创公司Prinano声称通过纳米压印将光子芯片生产成本降低90%

报道来源 [1]

  1. Tom's Hardware TIER_1 English(EN) · Etiido Uko ·

    Chinese startup claims photonic chip production without DUV lithography, says nanoimprint process cuts costs by 90% — 8-inch wafers produced without conventional optical lithography

    Chinese startup Prinano claims it produced 8-inch photonic chip wafers without DUV lithography, using nanoimprint technology that cuts costs by 90%.

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