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实体 Nanoimprint lithography

Nanoimprint lithography

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  1. RESEARCH · CL_78647 ·

    中国初创公司Prinano声称通过纳米压印将光子芯片生产成本降低90%

    中国初创公司Prinano宣布在光子芯片生产方面取得突破，采用了一种新颖的纳米压印光刻（NIL）工艺。该方法绕过了昂贵的深紫外（DUV）光刻设备的需求，可能将制造成本降低高达90%。该公司已成功生产出8英寸光子芯片晶圆，这是一个重大进展，可能有助于中国规避美国对先进半导体技术的出口限制。