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DUV lithography
DUV lithography
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中国半导体设备行业在关键领域取得进展，但仍存在差距
中国本土半导体设备行业正取得重大进展，尤其是在蚀刻、沉积和光刻技术方面，这在无锡举行的CSEAC 2026活动上得到了展示。尽管取得了这些进展，离子注入机和检测/测量工具等关键领域仍然落后，本土化率仍低于15%。这种对自给自足的推动正发生在与美国的持续技术竞争之中，影响了SMIC和ASML Holding等公司。
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中国开始量产国产浸没式DUV光刻机 · 跟踪2个来源
据报道，中国已开始量产其国产浸没式深紫外（DUV）光刻机，这是其国内芯片制造能力的一项重大进步。一家总部位于上海的国有企业预计将于今年向中芯国际、华虹和长鑫存储等主要中国代工厂交付首批设备。此前，美国正在考虑立法，以进一步限制中国获取先进半导体制造设备和服务的途径。
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中国初创公司Prinano声称纳米压印技术将光子芯片生产成本降低90%
中国初创公司Prinano宣布在光子芯片生产方面取得突破，采用了一种新颖的纳米压印光刻（NIL）工艺。该方法据称可以绕过昂贵的深紫外（DUV）光刻设备的需求，将制造成本降低约90%。该公司已成功生产出8英寸光子芯片晶圆，这是一个重大进展，可能有助于规避美国对先进半导体技术的出口限制。