中文(ZH) 预处理涂层技术让下一代晶体管更易制造

新型涂层技术简化下一代晶体管制造

作者 PulseAugur 编辑部 · [1 个来源] · 2026-06-22 00:42

美国能源部普林斯顿等离子体物理实验室的科学家们发现了一种用于二硫化钼的新型预处理涂层技术。该方法涉及氧气或氟气预处理，可在不影响其他原子的前提下简化下一代芯片晶体管的制造。研究结果发表在《物理化学通讯》杂志上。 AI

影响半导体制造领域的这项进展有可能带来更高效、更具成本效益的AI芯片生产。

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36氪 (36Kr) TIER_1 中文(ZH) · 2026-06-22 00:42

预处理涂层技术使下一代晶体管更易于制造

美国能源部普林斯顿等离子体物理实验室科学家，通过计算机模拟发现了一种简单却精妙的涂层技术：用氧或氟对二硫化钼进行预处理，就能让下一代芯片晶体管的制造变得更容易，同时不会殃及其他“无辜”的原子。相关论文发表于新一期《物理化学快报》杂志。（科技日报）