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Physical Chemistry Letters

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  1. TOOL · CL_103093 ·

    新型涂层技术简化下一代晶体管制造

    美国能源部普林斯顿等离子体物理实验室的科学家们发现了一种用于二硫化钼的新型预处理涂层技术。该方法涉及氧气或氟气预处理，可在不影响其他原子的前提下简化下一代芯片晶体管的制造。研究结果发表在《物理化学通讯》杂志上。