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English(EN) Jensen Huang thinks China will develop its own advanced lithography chipmaking tools by 2030 — Nvidia CEO says achievement of that capability 'is just a matter of time'

英伟达CEO：中国将在2030年前开发出先进光刻工具

作者 PulseAugur 编辑部 · [1 个来源] ·

英伟达CEO黄仁勋认为，中国将在2030年前实现先进光刻芯片制造工具的自给自足。他表示，中国在高产量生产方面表现出色，而开发这些能力只是时间问题。然而，目前的证据表明，中国领先的光刻设备生产商上海微电子装备（SMEE）与其竞争对手ASML的当前技术相比存在显著差距，即使是最先进的系统也可能需要数年才能实现大规模量产，并且与ASML当前的产品相比有很大差距。 AI

影响 这一预测凸显了半导体自给自足的地缘政治竞赛，这对AI的开发和部署至关重要。

排序理由 英伟达CEO对中国技术发展的看法，并非直接发布或产品公告。

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英伟达CEO：中国将在2030年前开发出先进光刻工具

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英伟达CEO对中国技术发展的看法，并非直接发布或产品公告。
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报道来源 [1]

  1. Tom's Hardware TIER_1 English(EN) · Anton Shilov ·

    黄仁勋认为中国将在2030年前开发出自己的先进光刻芯片制造工具——英伟达CEO表示，实现这一能力“只是时间问题”

    Nvidia CEO thinks that in light of his view of a three- to four-year timeline for Chinese development of advanced semi tooling, the country is "already there."

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