Nvidia CEO Jensen Huang 认为中国将在 2030 年前实现先进光刻芯片制造工具的自给自足。他表示,中国在批量生产方面已经很熟练,开发这些能力只是时间问题。然而,目前的评估表明,中国领先的光刻设备制造商上海微电子设备有限公司(SMEE)在先进 EUV 技术方面,与 ASML Holding 等行业领导者相比,仍有很大差距,因此到 2030 年实现技术同步的可能性不大。 AI
影响 这一发展可能通过改变对人工智能发展至关重要的先进半导体的供应链,从而对全球人工智能格局产生重大影响。
排序理由 该集群由新闻报道和社交媒体帖子组成,讨论了 Nvidia CEO 关于中国技术发展的观点,而不是主要来源的直接公告或发布。
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