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English(EN) China's EUV technology 'at a similar stage to ASML in 2004,' analyst claims — Beijing's semiconductor industry remains well behind Western rivals

中国EUV技术落后于ASML 2004年水平，分析师声称 · 追踪到2个来源

作者 PulseAugur 编辑部 · [2 个来源] ·

瑞银的一位分析师表示，中国先进的光刻技术目前相当于ASML在2004年的能力。尽管中国公司正在开发自己的半导体制造工具，包括沉积和蚀刻设备，但它们尚未生产出用于现代芯片生产的具有竞争力的光刻机。专家认为，即使未来在浸没式DUV光刻系统方面取得进展，中国的半导体产业仍可能继续落后于西方竞争对手。 AI

排序理由 对中国半导体制造技术与全球领导者进行比较的分析。[lever_c_降级自显著: ic=2 ai=0.4]

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中国EUV技术落后于ASML 2004年水平，分析师声称 · 追踪到2个来源

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报道来源 [2]

  1. Tom's Hardware TIER_1 English(EN) · Anton Shilov ·

    分析师称中国EUV技术“处于与2004年ASML相似的阶段”——北京的半导体产业仍远落后于西方竞争对手

    Despite rumors, there is no evidence that Chinese makers of lithography tools can produce immersion lithography scanners in quantity.

  2. Mastodon — mastodon.social TIER_1 English(EN) · [email protected] ·

    分析师称中国EUV技术“处于与2004年ASML相似的阶段”——尽管有传言，北京的半导体产业仍远落后于西方竞争对手

    China's EUV technology 'at a similar stage to ASML in 2004,' analyst claims — Beijing's semiconductor industry remains well behind Western rivals Despite rumors, there is no evidence that Chinese makers of lithography tools can produce immersion lithography scanners in quantity. …

    链接 tomshardware.com/…/chinas-euv-technology-… tomshardware.com/tech-industry

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