Francois-Xavier Bouvignies

分析师称中国EUV光刻技术落后于ASML 2004年水平

瑞银的一位分析师表示，中国先进的光刻技术目前相当于ASML在2004年的能力。尽管中国的ACM Research、AMEC和北方华创等公司在其他半导体制造设备方面取得了进展，但它们尚未开发出用于现代芯片生产的竞争性光刻机。据报道，上海微电子装备（SMEE）已推出能够生产28nm节点的浸没式DUV光刻系统，但没有证据表明其已实现量产或被芯片制造商采用，这表明中国的半导体产业仍落后于西方竞争对手。