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实体 Francois-Xavier Bouvignies

Francois-Xavier Bouvignies

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  1. RESEARCH · CL_232094 ·

    中国EUV技术落后于ASML 2004年水平，分析师声称 · 追踪到2个来源

    瑞银的一位分析师表示，中国先进的光刻技术目前相当于ASML在2004年的能力。尽管中国公司正在开发自己的半导体制造工具，包括沉积和蚀刻设备，但它们尚未生产出用于现代芯片生产的具有竞争力的光刻机。专家认为，即使未来在浸没式DUV光刻系统方面取得进展，中国的半导体产业仍可能继续落后于西方竞争对手。