华为创始人任正非公开支持“Tau标度律”，他认为这一新框架对于公司生存和在不依赖极紫外光刻（EUV）技术的情况下推进芯片技术至关重要。任正非表示，这条由数万名员工历时六年开发的道路，对于华为在美制裁下“破围而出”并蓬勃发展至关重要。这是自海思总裁何庭波公布Tau标度律以来，任正非首次公开对此发表评论。 AI
影响 这一发展可能预示着半导体技术进步的新途径，有可能规避既定的技术依赖和地缘政治限制。
排序理由 一家主要科技公司创始人公开支持一项新的技术框架，认为其对在面临地缘政治制裁下的生存至关重要。[lever_c_demoted from significant: ic=1 ai=0.7]
- extreme ultraviolet lithography
- HiSilicon
- Huawei
- Ren Zhengfei
- Science and Technology Daily
- Tau scaling law
- He Tingbo
- Tian Tao
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