IBM 宣布在半导体制造领域取得突破,开发出 0.7 纳米级别制造技术,这是业界首个亚纳米级工艺。这项新技术采用了纳米堆叠晶体管,将互补的 n 型和 p 型晶体管垂直堆叠在两个晶圆上,而不是并排放在单个晶圆上。这种创新的方法可以独立优化每种类型的晶体管,与 IBM 先前的 2 纳米级别节点相比,在性能和能效方面取得了显著的改进。 AI
影响 芯片制造的这项进步可能带来更强大、更节能的硬件,从而加速 AI 的开发和部署。
排序理由 IBM 宣布了一项代表半导体制造重大进步的新制造技术。
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- 2021
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- 7 angstroms
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