English(EN) Gradient-based inverse lithography for EUV masks via the waveguide method and a physics-informed neural operator

新AI框架实现极紫外光刻掩模的基于梯度反向光刻

作者 PulseAugur 编辑部 · [2 个来源] · 2026-06-24 12:22

研究人员开发了一种用于极紫外（EUV）光刻掩模的基于梯度反向光刻技术（ILT）。这一新颖的框架集成了可微分波导法和波导神经网络算子（WGNO）作为物理引擎。通过对整个前向衍射模型进行自动微分，该系统能够确定吸收体的介电常数，从而实现能够获得晶圆上所需场的光刻掩模结构。 AI

影响这项研究可能带来更精确、更高效的先进半导体元件制造。

排序理由该集群包含一篇学术论文，详细介绍了使用AI制造EUV光刻掩模的新方法。

AI 生成摘要 · Google Gemini · 来自 2 个来源。我们如何撰写摘要 →

报道来源 [2]

arXiv cs.LG TIER_1 English(EN) · Vasiliy A. Es'kin, Egor V. Ivanov · 2026-06-25 04:00

基于梯度的逆光刻技术用于EUV掩模，通过波导法和物理信息神经网络算子实现

arXiv:2606.25753v1 Announce Type: new Abstract: Gradient-based inverse lithography technology~(ILT) for extreme ultraviolet~(EUV) masks is presented. A novel framework treats the differentiable waveguide method and the recently proposed waveguide neural operator~(WGNO) as end-to-…
arXiv cs.AI TIER_1 English(EN) · Egor V. Ivanov · 2026-06-24 12:22

基于梯度的逆光刻技术用于EUV掩模，通过波导法和物理信息神经网络算子实现

Gradient-based inverse lithography technology~(ILT) for extreme ultraviolet~(EUV) masks is presented. A novel framework treats the differentiable waveguide method and the recently proposed waveguide neural operator~(WGNO) as end-to-end physics engines, recovering the permittivity…