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Semicon Taiwan
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Gigaphoton 发布氖气回收系统，助力芯片制造商
日本半导体光刻设备制造商Gigaphoton开发了一套名为hTGM的新氖气回收系统。该系统已展示出50%的回收率，旨在提高效率并减少对乌克兰冲突造成的全球氖气供应链的依赖。Kanken Techno等其他公司也在开发类似技术，其中一些回收率超过90%，这表明半导体行业在氖气利用方面有巨大的改进潜力。
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纳米压印光刻为光子芯片制造提供高吞吐量替代方案
纳米压印光刻（NIL）正被探索作为电子束光刻制造光子集成电路（PICs）的一种高吞吐量替代方案。虽然电子束光刻提供精度和灵活性，但其低吞吐量使其不适用于大规模生产。EVG在台湾半导体展上展示的NIL技术使用模具将图案压印到晶圆上，有可能以高得多的速度实现相似的分辨率。然而，挑战仍然存在，包括表面清洁度、精确套准、模具退化和晶圆平整度。