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Ru/Be/Sr

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  1. TOOL · CL_247822 ·

    新型EUV光刻系统有望实现更高吞吐量和亚10纳米特征分辨率

    研究人员开发了一种新颖的双反射镜投影系统，用于极紫外（EUV）光刻，能够在13.5纳米和11.2纳米波长下实现4倍缩小成像。与传统系统相比，该设计显著提高了光学吞吐量，保留了掩模发出的50-60%的功率。该系统采用了单独优化的布拉格多层膜涂层，并已证明能够高分辨率地模拟亚10纳米特征的航空图像，包括孤立峰和6纳米线对。