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  1. TOOL · CL_90489 ·

    中芯国际N+3制程分析:与Intel 18A和台积电N6的金属间距对比

    SemiAnalysis发布了一份详细的分析报告,将中芯国际的N+3制造工艺与Intel的18A和台积电的N6制程进行了比较。报告重点关注了金属间距的大小,这是半导体制造效率和性能的关键因素。分析还深入探讨了中芯国际N+3制程的其他方面,包括其光刻、单元架构以及潜在应用,特别是与海思麒麟9030的关系。