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实体 Inverse Lithography Technology

Inverse Lithography Technology

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  1. TOOL · CL_65902 ·

    新AI框架加速半导体掩模优化

    研究人员开发了LithoGRPO,一种结合了流匹配和基于GRPO的强化学习的逆光刻技术(ILT)新框架。该方法能够高效生成用于半导体制造的优化掩模,以提高图案转移保真度。LithoGRPO在强化学习过程中独特地利用了基于物理的奖励函数,从而能够在复杂的、面向工艺的约束下进行优化。该系统还包含一个用于可制造性评估的快速曝光次数计数算法,在保持掩模排名的同时实现了显著的加速。