研究人员开发了LithoGRPO，一种结合了流匹配和基于GRPO的强化学习的逆光刻技术（ILT）新框架。该方法能够高效生成用于半导体制造的优化掩模，以提高图案转移保真度。LithoGRPO在强化学习过程中独特地利用了基于物理的奖励函数，从而能够在复杂的、面向工艺的约束下进行优化。该系统还包含一个用于可制造性评估的快速曝光次数计数算法，在保持掩模排名的同时实现了显著的加速。 AI
影响 该AI框架可以通过提高电路图案转移的精度来加速半导体制造。
排序理由 这是一篇详细介绍针对特定技术问题的AI新方法的学术论文。[lever_c_demoted from research: ic=1 ai=1.0]
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