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Imec 路线图：2038 年实现 0.3 纳米节点，CFET 晶体管在 0.7 纳米时可行

Imec 的 2026 年路线图勾勒了半导体制造的未来，预计到 2038 年实现 0.3 纳米制造节点，并在 0.7 纳米时实现 CFET 晶体管的可行性。该研究组织正在重新定义摩尔定律，强调单元尺寸和密度而非传统的缩小尺寸，因为接触多晶硅间距预计将在 2030 年左右趋于平稳。这一转变需要 CFET 和潜在的 Hyper-NA EUV 光刻等新技术来继续推进芯片功能。