English(EN) LithoWorld: An Endpoint World Model for Lithography Process-Window Recovery

新的LithoWorld模型利用SEM数据增强光刻工艺恢复

作者 PulseAugur 编辑部 · [1 个来源] · 2026-10-19 04:00

研究人员开发了LithoWorld，这是一种新颖的终端世界模型，旨在利用扫描电子显微镜（SEM）数据恢复光刻工艺窗口。该模型旨在纠正超出可接受参数范围的图案漂移，确保合格的SEM形貌。LithoWorld利用因果预测分支进行特征对齐，并利用条件流策略生成校正，在测试数据上合格区域的成功率达到88.5%，优于现有方法。 AI

影响该模型通过实现更精确的工艺控制，有望提高半导体制造的精度。

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arXiv cs.CV TIER_1 English(EN) · Botong Zhao, Fang Yu, Xinyuan Chen, Yue Lu · 2026-10-19 04:00

LithoWorld：光刻工艺窗口恢复的端点世界模型

arXiv:2610.23408v1 Announce Type: new Abstract: Lithography process drift can move a fabricated pattern outside its process window, producing unqualified scanning electron microscopy (SEM) morphology. We present LithoWorld, an endpoint world model for SEM-guided parameter recover…

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LithoWorld：光刻工艺窗口恢复的端点世界模型

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