中国正在开发自己的极紫外(EUV)计量生态系统,这对于先进半导体制造至关重要。该计划涉及国内团队致力于EUV光源和测量技术,以满足在13.5nm波长下检测芯片的需求。中芯国际(Smic)和上海微电子装备(SMEE)等主要参与者正在努力,旨在减少对荷兰ASML Holding等外国供应商的依赖,尤其是在美国实施限制的背景下。 AI
影响 通过发展先进芯片制造技术的本土能力,对未来AI硬件的进步至关重要。
排序理由 由国家研发计划和地缘政治因素驱动的半导体制造基础设施的重大发展。[lever_c_demoted from significant: ic=1 ai=0.7]
- ASML Holding
- China
- China Academy of Sciences
- extreme ultraviolet lithography
- National Key R&D Program of China
- Netherlands
- Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE)
- Smic
- US
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