研究人员开发了一种去噪扩散概率模型(DDPM),用于生成高保真合成透射电子显微镜(TEM)图像,以用于半导体计量。该方法解决了真实TEM数据稀缺的问题,而真实TEM数据因样品制备具有破坏性、成像速度慢和成本高昂而受到限制。DDPM框架采用渐进式基于块的训练策略,并整合了TrivialAugment适应和RePaint风格修复等技术,以生成保留结构和空间真实感的高保真合成图像,达到了高MS-SSIM分数和专家验证。除了图像生成,该模型的特征还被重新用于图像分割任务,辅助缺陷检测和计量。 AI
影响 通过克服数据稀缺性,为半导体缺陷检测和计量的更鲁棒的ML训练提供了可能。
排序理由 该集群包含一篇研究论文,详细介绍了使用扩散模型进行合成数据生成的新方法。
- Denoising Diffusion Probabilistic Model
- machine learning
- semiconductor metrology
- Transmission Electron Microscopy
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