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Sparse Landmark Embedding kernel

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  1. TOOL · CL_258949 ·

    新的 SLE 核框架绕过了高斯过程的距离度量要求

    研究人员引入了一个名为稀疏地标嵌入（SLE）核的新核框架，旨在克服现有核方法（如高斯过程，GPs）的局限性。与要求特定距离度量以确保半正定性的传统方法不同，SLE 核可与任何距离度量配合使用。它通过将输入嵌入稀疏特征向量来实现这一点，从而保持了计算的可行性并对其性能提供了理论保证。