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Photonic Integrated Circuits Accessible to Everyone
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纳米压印光刻为光子芯片制造提供高吞吐量替代方案
纳米压印光刻（NIL）正被探索作为电子束光刻制造光子集成电路（PICs）的一种高吞吐量替代方案。虽然电子束光刻提供精度和灵活性，但其低吞吐量使其不适用于大规模生产。EVG在台湾半导体展上展示的NIL技术使用模具将图案压印到晶圆上，有可能以高得多的速度实现相似的分辨率。然而，挑战仍然存在，包括表面清洁度、精确套准、模具退化和晶圆平整度。
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光子神经形态网络实现无监督赫布学习
研究人员开发了一种深度光子神经形态网络（PNN）架构，该架构利用相变材料（PCM）突触和局部光反馈来实现无监督赫布学习。这种新颖的方法通过直接利用相关的突触前和突触后光活动进行适应，从而绕开了外部梯度或复杂的电光转换的需要。使用光纤组件和可编程衰减器的实验证明了该系统能够实现自适应突触演化、光推理和自主模式编码，为节能、集成光子神经形态系统铺平了道路。