LDU-Bench

新基准 LDU-Bench 评估用于光刻缺陷分析的多模态大语言模型

一个名为 LDU-Bench 的新基准已被开发出来，用于评估多模态大语言模型（MLLMs）在光刻缺陷理解方面的能力。该基准由真实的工业图像构建而成，将审查过程分解为四个任务：缺陷分类、形貌识别、粗略定位和图像条件下的原因分析。目前的 MLLMs 在缺陷分类方面显示出潜力，但在形貌对齐和证据到原因的映射等下游任务中遇到困难，这表明需要改进结构化理解能力。