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  1. TOOL · CL_228660 ·

    新基准显示大型语言模型在遵循上下文水印指令方面存在困难

    研究人员开发了一个新的基准 ICWBench,用于评估大型语言模型遵循上下文水印指令的能力。他们对 14 个大型语言模型的评估显示,没有一个模型能够始终如一地同时实现高检测率和高质量的回答。为了解决这个问题,他们提出了一种两阶段的训练方法:带 logits 扰动的自蒸馏(SDLP)和强化学习,该方法在 Qwen3-14B 和 GPT-OSS-20B 上显著提高了性能,同时保持了响应质量。