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RESEARCH · CL_153907 · Jul 19 · 20:16

LLM 演进芯片放置目标，改善布线和时序

研究人员开发了 CoEvoP&R，一个利用大型语言模型 (LLM) 为分析式放置器自动演进放置目标的新框架。该方法解决了传统放置阶段的代理指标与下游布线和时序质量之间的不匹配问题。通过生成可读、可微分的目标，并利用路由反馈进行验证，CoEvoP&R 与现有方法相比，显著改善了布线后线长、拥塞和时序指标。