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Global Blueprint Guidance

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  1. RESEARCH · CL_131425 ·

    新框架支持具有布局控制的高分辨率艺术作品外绘

    研究人员开发了一种新颖的两阶段扩散框架，用于高分辨率艺术作品外绘，该框架解决了全局规划、空间控制和推理延迟方面的局限性。所提出的方法首先使用布局适配器生成低分辨率全局蓝图，然后指导高分辨率局部块的并行合成。与现有方法相比，这种方法在视觉保真度、语义一致性方面有所提高，并显著减少了生成时间，同时还实现了显式的布局控制。