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ETCH-X

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  1. RESEARCH · CL_212014 ·

    新的AI越狱方法利用了时间和描述性漏洞

    研究人员开发了新的方法来绕过AI模型的安全过滤器,这些方法同时针对大型视觉语言模型(LVLMs)和文本到图像(T2I)模型。一种名为TempJail的技术,通过操纵字幕时间和调度来引发有害响应,从而利用LVLMs的时间漏洞。另一种名为Etch的方法,通过将有害文本嵌入生成的图像中来针对T2I模型,绕过了传统的基于视觉的安全措施。这两种方法在绕过当前AI安全对齐方面都取得了显著的成功率。

  2. RESEARCH · CL_20794 ·

    ETCH-X 和 OmniFit 通过新方法推进带衣三维人体拟合

    研究人员开发了 ETCH-X,一种将参数化人体模型拟合到带衣人体三维扫描的先进方法。这种新方法通过引入“贴合度感知”拟合范式来处理服装动力学,并利用 SMPL-X 扩展表达性,从而改进了其前身。ETCH-X 利用隐式密集对应而非显式标记来实现更高的鲁棒性和精细的细节,在各种数据集上取得了显著的性能提升。