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实体 electron beam lithography

electron beam lithography

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  1. TOOL · CL_270275 ·

    纳米压印光刻为光子芯片制造提供高吞吐量替代方案

    纳米压印光刻（NIL）正被探索作为电子束光刻制造光子集成电路（PICs）的一种高吞吐量替代方案。虽然电子束光刻提供精度和灵活性，但其低吞吐量使其不适用于大规模生产。EVG在台湾半导体展上展示的NIL技术使用模具将图案压印到晶圆上，有可能以高得多的速度实现相似的分辨率。然而，挑战仍然存在，包括表面清洁度、精确套准、模具退化和晶圆平整度。