Bowers Campus

Intel 扩大加州光掩模生产以支持先进 EUV 芯片技术

Intel 正在加州圣克拉拉的 Bowers Campus 扩大其光掩模生产能力。该公司正在建造一座新的制造和公用设施大楼，以提高其生产 DUV 和 EUV 层掩模的能力，包括 Intel 18A 和 14A 等先进节点。此次扩建旨在加强美国的半导体制造领导地位，并确保为领先的工艺技术（特别是可能随时间退化的 EUV 层）提供关键组件的可靠供应。