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22 nm lithography process
22 nm lithography process
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发布了用于内存计算加速器的新型模拟Softmax电路
研究人员开发了一种新颖的模拟Softmax电路，专为内存计算（CIM）加速器设计，旨在减少Transformer注意力机制的计算开销。该电路直接在CIM生成的电压分数上运行，将其转换为时域事件，从而在没有中间数模转换的情况下产生指数权重。该设计通过调整斜率和RC时间常数，可以实现可编程的有效温度。已使用MemTorch在硬件感知Transformer模型中进行了模拟和集成，验证损失在理想Softmax基线的2.5%以内。
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Intel 的 14A 工艺显示出比预期更快的缺陷降低速度
Intel 首席财务官 David Zinsner 报告了公司即将推出的 14A 制造工艺的重大进展。缺陷密度下降速度超出了预期，Zinsner 将此表现与 Intel 非常成功的 22nm 工艺进行了有利的比较。这一积极的轨迹增强了 Intel 内部设计团队的信心，并引起了外部代工客户对产能日益增长的兴趣。