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14A

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  1. RESEARCH · CL_121918 ·

    Intel 扩大加州光掩模生产以支持先进 EUV 芯片技术

    Intel 正在加州圣克拉拉的 Bowers Campus 扩大其光掩模生产能力。该公司正在建造一座新的制造和公用设施大楼,以提高其生产 DUV 和 EUV 层掩模的能力,包括 Intel 18A 和 14A 等先进节点。此次扩建旨在加强美国的半导体制造领导地位,并确保为领先的工艺技术(特别是可能随时间退化的 EUV 层)提供关键组件的可靠供应。

  2. SIGNIFICANT · CL_97333 ·

    英特尔因产能紧张和关键最后期限重新评估晶圆厂路线图

    英特尔正在重新评估其芯片制造路线图,在此前取消扩张计划后面临产能限制。该公司未来的晶圆厂开发,特别是其14A工艺节点,取决于今年和明年的关键最后期限,这将影响投资抵免和客户承诺。亚利桑那州和俄亥俄州的重点项目是英特尔战略的核心,亚利桑那州Fab 52已投入使用Intel 18A节点,但预计2027年初实现全面良率。

  3. SIGNIFICANT · CL_40953 ·

    Intel 启动 2030 年代 10A 和 7A 工艺技术开发

    Intel 已启动其 10A 和 7A 半导体制造工艺技术的开发,目标是在 2030 年代部署。该公司确认,其将采用 High-NA EUV 光刻技术的 14A 节点按计划进行,关键的工艺设计套件 (PDK) 发布定于十月。14A 节点的风险生产预计在 2028 年,量产定于 2029 年,这将使其能够与台积电即将推出的 A14 技术竞争。

  4. SIGNIFICANT · CL_33369 ·

    苹果测试英特尔工艺以制造iPhone、Mac芯片

    据报道,苹果公司正在测试英特尔先进的18A-P制造工艺,以生产部分iPhone、iPad和Mac的低端和旧款芯片。此举标志着苹果公司的一项多元化战略,自2016年以来,苹果公司几乎完全依赖台积电(TSMC)生产其处理器。初步测试预计将持续到2026年,生产可能于2027年开始,并在2029年前逐步扩大。尽管有此次合作,台积电(TSMC)预计仍将生产绝大多数苹果芯片。