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实体 12-inch photomasks

12-inch photomasks

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  1. RESEARCH · CL_241496 ·

    三星和台积电将在2030年前采用ASML的先进EUV技术

    三星和台积电将采用ASML先进的高数值孔径EUV光刻机，三星目标是2028年，台积电目标是2030年。这项此前为Intel独有的技术对于生产下一代芯片至关重要。两家公司还将与ASML合作，过渡到更大的12英寸光掩模，此举预计将提高产能、降低成本，并通过消除“拼接”芯片图案的需求来简化生产。