研究人员开发了 SCALE，一个旨在解决先进亚 2 纳米节点半导体制造中复杂设计规则违规的新框架。该系统采用自监督布局生成阶段，其中经过微调的语言模型学习从周围环境中重建被掩码的多边形。这种方法使模型能够生成带有 DRC 注释的布局违规对，然后用于微调领域适应的视觉语言模型 (VLM)。该 VLM 为局部 DRV 修复提供规则感知的几何指导，在真实案例中将最先进代理的解决率提高了高达 25%。 AI
影响 该框架可以通过自动化检测和修复复杂的布局违规来加速先进半导体的设计过程。
排序理由 该集群描述了一篇详细介绍特定工程问题的新的技术框架的研究论文。[lever_c_demoted from research: ic=1 ai=1.0]
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